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　　国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于高深宽比装置图案化的硬掩模中的金属导入”的专利，公开号CN121058084A，申请日期为2024年4月。专利摘要显示，一种用于使含硼硬掩模图案化的方法包括使在含硼硬掩模上形成的氧化物硬掩模图案化；及使用此图案化氧化物硬掩模使此含硼硬掩模图案化，其中此氧化物硬掩模包含氧化硅(SiO。

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